客户背景

在电子制造与新能源电池连接领域,PCB板与霍尔线之间的焊接质量直接关系到信号传输的稳定性与整机可靠性。客户在研发或来料检验阶段,发现焊接接头可能存在界面结合不良的隐患,需要评估焊接工艺的稳定性。为此,客户将PCB板样品送至我方检测中心,希望通过微观形貌分析,了解焊接界面金属间化合物(IMC)层的生长情况,为工艺优化提供数据支撑。

检测需求

本次送检样品为PCB板,测试项目为SEM形貌表征,旨在观察焊接界面IMC层的厚度与均匀性。依据内部方法进行测试,测试设备为激光自动焊接霍尔线。样品实拍照片及测试位置如下:

报告图片2

检测方案

我方检测中心采用扫描电子显微镜(SEM)对样品焊接界面进行形貌表征。测试流程包括:样品制备、测试位置定位、SEM图像采集与IMC层厚度测量。针对报告指定的三个测试位置(位置1、位置5、位置9),每个位置选取3个测试点,共9个测试点进行IMC层厚度测量,以评估界面结合的均匀性。测试设备为激光自动焊接霍尔线,测试方法为内部方法。

结果与结论

各测试位置的IMC层厚度测量结果如下表所示:

测试点

IMC层厚度(UM)

平均值(UM)

1

1.6

1.23

0.8

1.3

2

0.7

1.2

1.8

1.1

3

0.7

1.1

1.4

1.2

4

1.7

1.2

1.2

0.7

5

0.7

0.67

0.8

0.5

6

0.7

0.97

1.2

1.0

7

1.4

1.4

1.3

1.5

8

0.8

0.67

0.5

0.7

9

1.3

0.97

1.0

0.6

SEM形貌图像如下:

报告图片3
报告图片4
报告图片5
报告图片6
报告图片7
报告图片8
报告图片9
报告图片10
报告图片11
报告图片12

从表中数据可以看出,位置1的IMC层平均厚度为1.23μm,位置5为1.2μm,位置9为1.4μm。各测试点厚度存在一定波动,例如位置5测试点2的平均厚度仅为0.67μm,而位置9测试点1达到1.4μm,表明焊接界面IMC层生长不均匀。IMC层过厚可能增加接头脆性,过薄则可能影响结合强度,建议客户结合工艺参数进一步优化焊接温度与时间。需要说明的是,本次测试结果为半定量分析,数据供研发参考,并非第三方公证数据。