非导体样品信号不稳定？

未镀导电层或射频模式参数不当，需优化电压/气压比。

痕量元素未检出？

预溅射不足导致表面污染掩盖信号，延长清洁时间至30分钟。

溅射速率过高（>100nm/min），降低放电电流至1-2mA。

基体效应影响RSF值，建议使用基体匹配的标准样品校准。

热应力导致，避免连续高功率放电，采用间歇式溅射。

Name: 辉光放电质谱仪GDMS（GDOES）
Brand: 诺研技术
Price: 2000 CNY
Availability: InStock

项目介绍

样品要求

测试步骤

常见问题

辉光放电质谱仪（GDMS）利用低压惰性气体（通常为氩气）中的辉光放电等离子体轰击样品表面，使原子溅射并离子化，通过质谱分析器分离检测离子，实现固体材料的直接成分分析。其核心原理基于阴极溅射效应：样品作为阴极，在高压电场下被氩离子轰击，释放出的原子经电子碰撞离子化后，按质荷比（m/z）分离检测。

行业	应用场景
半导体	高纯硅、砷化镓、磷化铟等单晶材料中金属杂质检测
新能源	锂电池正负极材料（如NMC、石墨）、隔膜中杂质控制
航空航天	高温合金、钛合金、镍基合金中超痕量有害元素（S、P、Na、K等）分析
核工业	核级锆合金、铀燃料中裂变产物与杂质监控
光学材料	激光晶体、红外窗口材料（如ZnSe、CaF₂）纯度评估
金属冶炼	高纯铜、铝、钨、钼等靶材、蒸发材料的质量控制
科研机构	新材料开发、标准物质定值、同位素比测定

样品制备：
1. 块体样品：打磨抛光→超声清洗（丙酮/乙醇）→干燥。
2. 粉末：与粘结剂混合→压片（5-10吨压力）→固化。
3. 非导体：表面溅射镀金（≤50nm）。
上机测试：
1. 真空系统抽至10⁻² Pa，通入高纯氩气（99.999%）。
2. 放电参数：电压800-1500V，电流1-5mA（视导电性调节）。
3. 预溅射10-30分钟去除表面污染。
数据采集：
1. 全谱扫描（m/z 1-250）或选定元素分析。
2. 深度剖面模式：连续记录溅射时间与元素信号。
结果处理：
1. 质谱峰校准→RSF（相对灵敏度因子）定量→深度-浓度曲线生成。